La Mascarilla Hidratante Chok-Chok Hyaluronic Acid & Algae de Ondo Beauty 36.5 está fabricada con un tejido biodegradable y contiene un 88% de agua de hamamelis, complejo de 8 plantas marinas y niacinamida, los cuales ayudan a rellenar e hidratar profundamente la peau.
Il est parfait pour les personnes à la peau déshydratée qui cherchent à mettre en valeur la luminosité et à obtenir l’effet peau de verre coréen.
Le masque stimulant à l'acide hyaluronique et aux algues contient 88 % d'hamamélis, qui est le principal ingrédient actif pour apaiser la peau, nettoyer et minimiser les pores dilatés.
Le complexe de plantes marines aux 7 types d'extraits d'algues et de Narcisse marin (plante marine) enrichit la peau en nutriments essentiels.
La niacinamide, dérivée de la vitamine B3, apaise, éclaircit la peau et prévient l'apparition des taches brunes.
Aquaxyl optimise le flux d'hydratation de la peau, contrôle la circulation et les réserves en eau, offrant un « bouclier anti-déshydratation » aux effets visibles en 8 heures.
Vegan.
Cruelty free.
Utilisez le masque Acide Hyaluronique & Algues pour repulper et hydrater la peau en profondeur.
Maritimum Extract, Sodium Hyaluronate, Xylitol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Magnesium PCA, Zinc PCA, Sodium PCA, Tocopherol, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Betaine, Aqua (Water/Eau), Butylene Glycol, Caprylyl Glycol, Pentylene Glycol, Polyglyceryl-10 Laurate, Sodium Phytate, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Tromethamine, Limonene*.*Presente naturalmente en los aceites esenciales.
